真空电镀工艺可能遇到的问题及对策
3.真空室内残余气体压力对膜层的影响
真空室内残余气体的压力对膜性能的影响较大。压力过高残余气体分子不但已与蒸发粒子碰撞使其入射到基片上的动能减小影响膜的附着力。而且，过高的残余气体压力还会严重影响膜的纯度，使涂层的性能降低。
4.蒸发温度对蒸发涂层的影响
蒸发温度对膜性能的影响是通过蒸发速率随温度变化而表现出来。当蒸发温度高时，汽化热将减小。如果膜材在蒸发温度以上进行蒸发时，即使是温度稍有微小的变化，也可以引发膜材蒸发速率的急剧变化。因此，在薄膜的沉积过程中采取准确的控制蒸发温度，避免在蒸发源加热时产生大的温度梯度，对于易于升华的膜材选用膜材本身为加热器，进行蒸镀等措施也是非常重要的。
5.基体与镀膜室的清洁状态对涂层性能的影响
基体与镀膜室的清洁程度对涂层的性能影响是不可忽略的。它不仅会严重影响沉积膜的纯度，而且也会减小膜的附着力。因此对基体的净化对真空镀膜室及室内的有关构件（如基片架）进行清洁处理和表面去气均是真空镀膜工艺过程中不可缺少的过程。
真空蒸发镀膜中采用的被镀材料称为薄膜材料，简称膜材或镀材。在溅射镀膜中称为靶材如果从所用薄膜材料的种类来看，主要分为以下几种薄膜材料。
（1）纯金属材料
对于纯金属材料，由于它的蒸发（升华）是单一的，因此，淀积到基体上的薄膜材料与从蒸发源上发出来的膜材完全相同。只要避免它在加热蒸发过程中杂志的混入，就可以得到组分单一的纯金属膜层。
（2）金属合金
蒸发合金时会出现分馏（成分的部分分离）。因为不同金属的蒸发速率的差异。
（3）绝缘体和介质
大多数绝缘体和介质蒸发时会发生分解，或与加热器材料发生化学变化。由于两者都和蒸发源温度有关。因此淀积膜的成分随蒸发源温度而变化。
以上信息由专业从事PVD电镀表面处理的瑞泓科技于2024/3/26 9:11:36发布
转载请注明来源：http://taizhou.mf1288.com/ruihong88-2724131142.html
